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Reinraumtechnologien

Die Gruppe am Paul Scherrer Institut befasst sich mit der Herstellung komplexer Oberflächentopographien bis in den zweistelligen Nanometermassstab.

Die Gruppe Polymer Nanotechnology am Paul Scherrer Institut PSI befasst sich mit der Herstellung komplexer Oberflächentopographien bis in den zweistelligen Nanometermassstab. Hierzu kommen Reinraumtechnologien wie lithographische Prozesse und Präge-Verfahren zum Zug.

Reinräume mit über 300 m2 Fläche stehen am PSI für die Strukturgenerierung zu Verfügung und sind zeitgemäss eingerichtet für Photo-, Elektronenstrahl-- und Nanoimpring-Lithographie, Trocken- und Nassätzen, Metallisierung, Analytik und Metrologie.

Mittels E-beam Lithographie (EBL) können Strukturen bis ca. 20nm Auflösung geschrieben werden. Hierzu steht ein modernes EBL-System (Vistec EB5000) zu Verfügung. Eine Spezialität ist die Graustufenelektronenstrahllithographie, welche am PSI entwickelt wurde. Sie ermöglicht die Herstellung komplexer Strukturen.

Die Nanoimprint Lithographie (NIL) erlaubt das zuverlässige Replizieren von Mikro- und Nanostrukturen mittels thermischem oder UV-unterstütztem Prägen. Diese Prozesse werden auf einer HEX03 realisiert. Mehr...

Die Röntgeninterferenz-Lithographie (XIL) ermöglicht gar Strukturen bis in den Bereich unter 10nm. Für solche höchstaufgelöste Strukturen steht eine dezidierte XIL Beamline an der Swiss Light Source geschrieben werden.

Kontakt am PSI für Polymer Nanotechnology: Dr. Helmut Schift, +41 56 310 28 39

Kontakt

Prof.
Prof. Dr. Per Magnus Kristiansen Leiter Institut für Nanotechnische Kunststoffanwendungen FHNW Telefon : +41 56 202 73 86 E-Mail : magnus.kristiansen@fhnw.ch
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